特許
J-GLOBAL ID：200903048874713480
水素発生システム及び方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 安藤 克則
, 池田 幸弘
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-555120
公開番号（公開出願番号）：特表2008-528438
出願日： 2006年01月27日
公開日（公表日）： 2008年07月31日
要約：
水素を水素貯蔵領域に移送するためのガス透過膜を含む隔壁によって分離された燃料貯蔵チャンバー及び水素貯蔵領域を含む、燃料容器及び水素ガス発生システム及び方法が提供される。水素分離チャンバー並びに燃料溶液及び製品物質を貯蔵する容量交換構成を組み込むこともできる。燃料貯蔵チャンバーから水素貯蔵領域への正の圧力差を維持しながら、燃料溶液の反応チャンバーへの移送及び水素及び生成物の水素分離チャンバーへの移送を制御する方法も提供される。
請求項（抜粋）：
水素ガス及び製品物質を形成できる水素発生装置であって、
第1内部圧力を有する燃料貯蔵チャンバーと、
第2内部圧力を有する水素貯蔵領域と、
燃料を前記燃料貯蔵チャンバーから反応チャンバーに移送するように適合されたポンプと、
前記第2内部圧力を前記第1内部圧力より低い水準に維持する手段と
を含み、
前記燃料貯蔵チャンバーが少なくとも1つのガス透過膜を含み、前記燃料によって発生した水素ガスをガス透過膜を通過させて前記水素貯蔵領域に送ることが可能である、水素発生装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (3件)：
5H027AA02
, 5H027BA14
, 5H027BA16
