特許

J-GLOBAL ID：200903048876353723

錯体及びそれを用いたエポキシドの製法

発明者： 柴▲崎▼ 正勝 ,  大嶋 孝志 ,  根本 哲宏
出願人/特許権者： 東京大学長
代理人 (1件)： 杉村 興作 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-241553
公開番号（公開出願番号）：特開2003-055389
出願日： 2001年08月09日
公開日（公表日）： 2003年02月26日
要約：

【要約】【課題】 一般性、汎用性のあるエポキシドの製法を提供。【解決手段】 本発明の錯体は、一般式 (1)【化1】(式中、Xは、P又はAsであり、Mは希土類金属を示す。R1は、アルコキシ基、アルキルぺルオキシ基を、R2は、フェニルの誘導体、複素環化合物、アルキル基を示す。R3、R4は、芳香族環上の置換基を示す。)で表されることを特徴とする。また、本発明のエポキシドの製法は、前記錯体からなる不斉触媒の存在下、不飽和性アミド又は不飽和性ケトンと、酸化剤とを反応させて得ることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

一般式【化1】(但し、Xは、P又はAsを示す。Mは、希土類金属を示す。R1は、アルコキシ基、アルキルぺルオキシ基を、R2は、フェニルの誘導体、複素環化合物、アルキル基を示す。R3、R4は、芳香族環上の置換基を示す。)で表される錯体。

IPC (10件)：

C07F 9/74 ,  B01J 31/22 ,  C07D301/19 ,  C07D303/32 ,  C07D303/38 ,  C07D303/40 ,  C07D405/04 ,  C07D413/04 ,  C07B 53/00 ,  C07B 61/00 300

FI (10件)：

C07F 9/74 ,  B01J 31/22 Z ,  C07D301/19 ,  C07D303/32 ,  C07D303/38 ,  C07D303/40 ,  C07D405/04 ,  C07D413/04 ,  C07B 53/00 B ,  C07B 61/00 300

Fターム (47件)：

4C048AA01 ,  4C048BB02 ,  4C048BB15 ,  4C048BB16 ,  4C048BB31 ,  4C048BB33 ,  4C048CC01 ,  4C048UU03 ,  4C048XX02 ,  4C048XX05 ,  4C063AA01 ,  4C063BB01 ,  4C063CC71 ,  4C063DD25 ,  4C063DD26 ,  4C063DD41 ,  4C063DD52 ,  4C063EE05 ,  4G069AA06 ,  4G069AA08 ,  4G069BA27A ,  4G069BA27B ,  4G069BC38A ,  4G069BC42A ,  4G069BC42B ,  4G069BC44A ,  4G069BC44B ,  4G069BE29A ,  4G069BE29B ,  4G069BE31A ,  4G069BE31B ,  4G069BE36A ,  4G069BE36B ,  4G069CB57 ,  4G069CB73 ,  4G069DA02 ,  4G069FA01 ,  4H006AA02 ,  4H006AC81 ,  4H006BA08 ,  4H006BA27 ,  4H006BA35 ,  4H039CA63 ,  4H039CF10 ,  4H050AA01 ,  4H050AA03 ,  4H050AB40