特許
J-GLOBAL ID：200903048901209985
排ガス処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西教 圭一郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-183431
公開番号（公開出願番号）：特開平6-023223
出願日： 1992年07月10日
公開日（公表日）： 1994年02月01日
要約：
【要約】【目的】 有害/悪臭ガスの吸着を、平行流の気流搬送下において粉体の吸着剤によって高効率に行うことができ、低運転コストで排ガス処理が可能となる排ガス処理装置を提供する。【構成】 第1集塵装置14Aと、この第1集塵装置14Aの被処理ガス8を導出するための出口ダクト9Bに接続される第2集塵装置15Aと、それ等の粉体取出口に接続されて両取出口から取出される粉体の吸着剤を再生処理する再生装置3,4と、少し汚れている粉体の吸着剤を気流搬送によって第1集塵装置14Aの入口ダクト9Aの途中に導入する第1段吸着剤供給手段10Aと、再生装置3,4で再生された吸着剤を気流搬送によって出口ダクト9Bの途中に導入する第2段吸着剤供給手段5とから排ガス処理装置が構成される。
請求項（抜粋）：
入口ダクトから導入される被処理ガスに含まれる粉体を分離し集塵する第1集塵装置と、この第1集塵装置の被処理ガスを導出する出口ダクトに接続される第2集塵装置と、この第2集塵装置の粉体取出口および前記第1集塵装置の粉体取出口に接続され、両取出口から取出される粉体の吸着剤を再生処理する再生装置と、吸着を行って少し汚れている粉体の吸着剤を、気流搬送によって前記入口ダクトの途中に導入する第1段吸着剤供給手段と、前記再生装置で再生された粉体の吸着剤を、気流搬送によって前記出口ダクトの途中に導入する第2段吸着剤供給手段とを含むことを特徴とする排ガス処理装置。
IPC (2件)：
前のページに戻る
