特許
J-GLOBAL ID:200903048902741630
水素含有ガス生成装置の停止保管方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
北村 修一郎 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-272676
公開番号(公開出願番号):特開2002-080204
出願日: 2000年09月08日
公開日(公表日): 2002年03月19日
要約:
【要約】【課題】 メンテナンス作業を簡略化し得ると共に、ランニングコストを低減し得る水素含有ガス生成装置の停止保管方法を提供する。【解決手段】 供給される炭化水素系の原燃料を水蒸気生成部Sにて生成される水蒸気にて改質処理する改質処理部3が設けられた水素含有ガス生成装置の停止保管方法であって、原燃料の供給を停止した状態にて水蒸気生成部Sにおける水蒸気の生成を継続して、改質処理部3の内部のガスを水蒸気にて置換する水蒸気置換処理を行い、その後、水蒸気生成部Sにおける水蒸気の生成を停止した状態で、改質処理部3を加熱手段Hにて加熱することにより、改質処理部3の内部の水蒸気が凝縮しないように維持する保温処理を行う。
請求項(抜粋):
供給される炭化水素系の原燃料を水蒸気生成部にて生成される水蒸気にて改質処理する改質処理部が設けられた水素含有ガス生成装置の停止保管方法であって、原燃料の供給を停止した状態にて前記水蒸気生成部における水蒸気の生成を継続して、前記改質処理部の内部のガスを水蒸気にて置換する水蒸気置換処理を行い、その後、前記水蒸気生成部における水蒸気の生成を停止した状態で、前記改質処理部を加熱手段にて加熱することにより、前記改質処理部の内部の水蒸気が凝縮しないように維持する保温処理を行う水素含有ガス生成装置の停止保管方法。
IPC (4件):
C01B 3/38
, H01M 8/04
, H01M 8/06
, H01M 8/10
FI (4件):
C01B 3/38
, H01M 8/04 Y
, H01M 8/06 G
, H01M 8/10
Fターム (24件):
4G040EA03
, 4G040EA06
, 4G040EB03
, 4G040EB43
, 4G140EA03
, 4G140EA06
, 4G140EB03
, 4G140EB43
, 5H026AA06
, 5H027AA04
, 5H027AA05
, 5H027AA06
, 5H027BA01
, 5H027BA06
, 5H027BA09
, 5H027BA17
, 5H027KK42
, 5H027KK44
, 5H027MM03
, 5H027MM08
, 5H027MM12
, 5H027MM13
, 5H027MM14
, 5H027MM21
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