特許

J-GLOBAL ID：200903048903217535

基板処理装置

発明者： 三島 浩二 ,  神田 裕之 ,  勝岡 誠司
出願人/特許権者： 株式会社荏原製作所
代理人 (5件)： 渡邉 勇 ,  堀田 信太郎 ,  小杉 良二 ,  森 友宏 ,  廣澤 哲也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-125920
公開番号（公開出願番号）：特開2005-307274
出願日： 2004年04月21日
公開日（公表日）： 2005年11月04日
要約：

【課題】 装置のスループットを犠牲にすることなくめっき処理に加えて付加処理を行うことができ、また、低コストでアップグレードすることができる基板処理装置を提供する。【解決手段】 基板処理装置は、基板Wに対してめっき処理を行うめっき処理装置2と、基板Wに対して付加処理を行う付加処理装置3とを備えている。めっき処理装置2は、基板Wに対してめっき処理を行い基板の表面に金属を成膜するめっきユニット20と、基板Wを載置する基板載置台24,26と、めっき処理装置2内で基板Wを搬送する搬送装置28とを備えている。付加処理装置3は、めっき処理装置2に連結されており、基板Wに対して付加処理を行う付加処理ユニット30と、めっき処理装置2の基板載置台26と付加処理ユニット30との間で基板を搬送する搬送装置32とを備えている。【選択図】 図4

請求項（抜粋）：

基板に対してめっき処理を行い基板の表面に金属を成膜するめっき処理装置と、基板に対して付加処理を行う付加処理装置とを備えた基板処理装置において、 前記めっき処理装置は、前記付加処理装置に搬送する基板を載置する基板載置台を備え、 前記付加処理装置は、基板に対して付加処理を行う付加処理ユニットと、前記めっき処理装置の基板載置台と前記付加処理ユニットとの間で基板を搬送する搬送装置とを備えたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (4件)：

C25D5/48 ,  C25D7/12 ,  C25D17/00 ,  H01L21/68

FI (4件)：

C25D5/48 ,  C25D7/12 ,  C25D17/00 K ,  H01L21/68 A

Fターム (28件)：

4K024AA03 ,  4K024AA07 ,  4K024AA09 ,  4K024AA11 ,  4K024BA15 ,  4K024BB12 ,  4K024CB03 ,  4K024CB26 ,  4K024DA07 ,  4K024DB01 ,  5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031DA08 ,  5F031FA01 ,  5F031FA02 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031HA13 ,  5F031HA48 ,  5F031HA58 ,  5F031LA07 ,  5F031LA12 ,  5F031MA03 ,  5F031MA22 ,  5F031MA23 ,  5F031MA24 ,  5F031MA25