特許

J-GLOBAL ID：200903048906800940

加熱装置

発明者： 村里 真寛 ,  牛越 隆介 ,  梅本 鍠一
出願人/特許権者： 日本碍子株式会社
代理人 (1件)： 杉村 暁秀 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-033445
公開番号（公開出願番号）：特開平6-252055
出願日： 1993年02月23日
公開日（公表日）： 1994年09月09日
要約：

【要約】【目的】 緻密質セラミックスからなる盤状基体に抵抗発熱体を埋設してなる盤状セラミックスヒーターにおいて、昇温及び降温を繰り返し実施しても、盤状基体が破損しないようにすることである。【構成】 円盤状セラミックスヒーター1においては、緻密質セラミックスからなる例えば円盤状の基体2内に、抵抗発熱体3A,3Bが埋設されている。この加熱装置は、抵抗発熱体3A,3Bに電力を供給するための電力供給部を備えている。円盤状セラミックスヒーター1の温度上昇時及び温度下降時において、円盤状セラミックスヒーター1の周縁部の温度よりも中央部の温度の方が高くなるように、抵抗発熱体3A,3Bへの電力供給量を制御できるように構成されている。

請求項（抜粋）：

緻密質セラミックスからなる盤状基体に抵抗発熱体を埋設してなる盤状セラミックスヒーターと、前記抵抗発熱体に電力を供給するための電力供給部とを備えた加熱装置であって、前記盤状セラミックスヒーターの温度上昇時及び温度下降時において、この盤状セラミックスヒーターの周縁部の温度よりも中央部の温度の方が高くなるように前記抵抗発熱体への電力供給量を制御できるように構成された、加熱装置。

IPC (6件)：

H01L 21/205 ,  H05B 3/14 ,  H05B 3/20 356 ,  H01L 21/302 ,  H05B 3/18 ,  H05B 3/74

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平4-098784
  
• 特開平2-021983
  
• 特開平4-239120
  
• 特開平2-298391