特許
J-GLOBAL ID:200903048911277016

アークイオンプレーティング装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 梶 良之 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-113209
公開番号(公開出願番号):特開2001-348661
出願日: 1994年03月15日
公開日(公表日): 2001年12月18日
要約:
【要約】【課題】 ワークの効率的なハンドリングを行うことで極めて高い生産性を実現できる、ロッド状蒸発源を採用したAIP装置を提供する。【解決手段】 アークを発生させるロッド状蒸発源14と、該ロッド状蒸発源14を取り囲むように配設され表面に皮膜がコーティングされるワーク5とを有するアークイオンプレーティング装置において、前記ワーク5が前記ロッド状蒸発源14に対して相対的に前記ロッド状蒸発源14の軸方向に移動可能である。
請求項(抜粋):
アークを発生させるロッド状蒸発源と、該ロッド状蒸発源を取り囲むように配設され表面に皮膜がコーティングされるワークとを有するアークイオンプレーティング装置において、前記ワークが前記ロッド状蒸発源に対して相対的に前記ロッド状蒸発源の軸方向に移動可能であることを特徴とするアークイオンプレーティング装置。
IPC (2件):
C23C 14/32 ,  C23C 14/56
FI (3件):
C23C 14/32 D ,  C23C 14/32 A ,  C23C 14/56 B
Fターム (6件):
4K029BD04 ,  4K029CA03 ,  4K029DB08 ,  4K029DD06 ,  4K029KA01 ,  4K029KA03
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 特開平3-090566
  • 特開平4-183863
  • 特開平1-240660
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