特許
J-GLOBAL ID：200903048917183552

異なるタイミングで形成されるドット間の形成位置のずれの調整

発明者：
田行 一成

田行 一成 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (1件)： 五十嵐 孝雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-159432
公開番号（公開出願番号）：特開2001-334655
出願日： 2000年05月30日
公開日（公表日）： 2001年12月04日
要約：
【要約】【課題】 異なるタイミングで形成されるドット間の形成位置の相対的なずれを精度よく調整して、印刷画質を向上させる技術を提供する。【解決手段】 異なるタイミングで形成される第1のドットと第2のドットとの間の形成位置のずれを調整するためのテストパターンとして、パッチ状のパターンを用いる。このテストパターンは、第1のドットの形成密度が第2のドットの形成密度よりも高い第1の領域と、第2のドットの形成密度が第1のドットの形成密度よりも高い第2の領域とが、主走査方向および副走査方向に混在するテストパターンである。このテストパターンを印刷するための印刷データは、誤差拡散の重み値を調整した拡散マトリクスを用いてハーフトーン処理することによって生成する。
請求項（抜粋）：
インクを吐出するための複数のノズルを有する印刷ヘッドを備え、前記印刷ヘッドにより印刷媒体上にドットを形成して印刷を行う印刷部に、異なるタイミングで形成される第1のドットと第2のドットとの間の形成位置のずれを調整するためのテストパターンを印刷させる印刷制御装置であって、前記テストパターンは、所定の面積に所定の記録率で同等数の第1のドットと第2のドットとが形成されるパッチ状のパターンであり、前記第1のドットの形成密度が前記第2のドットの形成密度よりも高い第1の領域と、前記第2のドットの形成密度が前記第1のドットの形成密度よりも高い第2の領域とが、主走査方向および副走査方向に混在するテストパターンである、印刷制御装置。
IPC (3件)：
B41J 2/01 ,  B41J 2/21 ,  B41J 29/46
FI (3件)：
B41J 29/46 A ,  B41J 3/04 101 Z ,  B41J 3/04 101 A
Fターム (14件)：
2C056EA07 ,  2C056EA11 ,  2C056EB27 ,  2C056EB36 ,  2C056EB42 ,  2C056EC08 ,  2C056EC37 ,  2C056EC77 ,  2C056EE02 ,  2C056FA11 ,  2C061AQ05 ,  2C061KK13 ,  2C061KK18 ,  2C061KK26
引用特許：
審査官引用 (8件)
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