整髪用樹脂

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：安藤惇逸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-305068
公開番号（公開出願番号）：特開平6-128337
出願日： 1992年10月15日
公開日（公表日）： 1994年05月10日
要約：

【要約】 (修正有)【構成】繰り返し単位A〔式(I)〕を10〜30モル%、繰り返し単位B〔式(II)〕と繰り返し単位C〔式(III)〕とを合計して5〜30モル%、その他の繰り返し単位Dを40〜85モル%含有し、且つ繰り返し単位A,B,C間のモル比率が所定の範囲内にある整髪用樹脂。{式中、R1 ,R6 ,、R7 はH,CH3 ;R2 はC2〜4-のアルキレン基;R3 ,R4 はC1〜4-のアルキル基;R5 はC1〜4-のアルキル基、-CH2 CH2 OH、ベンジル基、グリシジル基等;AはO,NH;XはBr,CH3 SO4 等;BはNa,K,Li,NH4 等を示す}【効果】ソープフリーでエアーゾルフォームを形成し、粘着及びフレーキングがなく、平滑性に優れ、高温・高湿下において、感触を損わずに優れたセット力を発揮する。

請求項（抜粋）：

下記の一般式(I)で示される四級カチオン化された繰り返し単位A、一般式(II)で示されるアニオン化された繰り返し単位B、一般式 (III)で示されるカルボキシル基を有する繰り返し単位C及びその他の繰り返し単位Dからなり、前記繰り返し単位Aを10〜30モル%、繰り返し単位Bと繰り返し単位Cとを合計5〜30モル%、繰り返し単位Dを40〜85モル%各々含有し、且つモル比率{繰り返し単位Aのモル%/(繰り返し単位Bのモル%+繰り返し単位Cのモル%)}が(100/100)〜(100/50)、モル比率{繰り返し単位Bのモル%+繰り返し単位Cのモル%)/繰り返し単位Bのモル%}が(100/85)〜(100/30)である整髪用樹脂。【化1】{式中、R1 、R6 、R7 はH又はCH3 、R2 はCH2 〜C4 H8 のアルキレン基、R3 、R4 はCH3 〜C4 H9 のアルキル基、R5 はCH3 〜C4 H9 のアルキル基、-CH2 CH2 OH、下記の化2、化3で示される基、【化2】【化3】-CH2 H(OH)CCH3 又は-CH2 C(OH)HCH2 (OCH2 CH2)n OH(但し、n=1〜9の整数)、AはO又はNH、XはBr、Cl、I、CH3 SO4 又はC2 H5 SO4 、BはNa、K、Li、NH4 、(但し、R8 、R9 は同一でも相異なるものでもよく、H又は-Y-OH、YはCH2 〜C7 H14の直鎖又は分岐鎖アルキレン基、或は少なくとも1個のヒドロキシメチル基で置換された直鎖又は分岐鎖アルキレン基)、下記の化4、化5、化6、化7、化8で示される基、【化4】【化5】【化6】【化7】【化8】H3 CNH3 又はH3 CN(CH3 )H2 である。}

IPC (5件)：

C08F220/36 MMR , A61K 7/00 , A61K 7/11 , C08F220/06 MLR , C08F220/60 MNH

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