特許

J-GLOBAL ID：200903048922099217

パターン形成状態検出装置及びそれを備えた露光装置

発明者： 入江 信行
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 恩田 博宣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-075985
公開番号（公開出願番号）：特開平11-274048
出願日： 1998年03月24日
公開日（公表日）： 1999年10月08日
要約：

【要約】【課題】 マスク上に特別なパターンを設けることなく、投影光学系の高精度な結像位置検出を可能にするパターン形成状態検出装置及び露光装置を提供する。【解決手段】 ウェハW上に形成されたパターンを照明光学系28により照明すると、そのパターンの形成状態に応じて散乱光、回折光を含む反射光が発生する。その反射光を集光対物レンズ29を介してその集光対物レンズ28の瞳位置に配置された撮像素子30で検出する。主制御系44において、前記反射光の検出信号から反射光の光強度分布に関する信号波形を算出する。そして、前記散乱光の強度に応じて変化する前記信号波形のピーク幅からパターンのデフォーカス状態を、複数の次数の回折光に基づく各ピーク間の距離からパターンピッチを、それぞれ求める。

請求項（抜粋）：

基板上に所定の条件で形成されたパターンを照明する照明光学系と、前記パターンで反射した光束を集光する集光光学系と、前記反射した光束を前記集光光学系の瞳位置で検出する検出装置と、前記検出装置の検出結果に基づいて前記パターンの形成状態を評価する評価手段とを備え、前記評価手段は、前記反射した光束に含まれる散乱光の強度に基づいて、前記パターンの形成状態を評価するパターン形成状態検出装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 502 V ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 516 C