特許
J-GLOBAL ID：200903048926977901
強誘電体薄膜微細パターン形成剤及び強誘電体薄膜微細パターン形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
金山 敏彦 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-299289
公開番号（公開出願番号）：特開平5-132562
出願日： 1991年11月14日
公開日（公表日）： 1993年05月28日
要約：
【要約】【目的】 簡略な工程で強誘電体薄膜の微細パターンを形成できる強誘電体薄膜微細パターン形成剤及び強誘電体薄膜微細パターン形成方法を提供する。【構成】 本実施例においては、化1のような感応性ポリマーを含む強誘電体薄膜微細パターン形成剤を作成し、これを基板上に均一にコーティングした後に、所定のパターンに沿って光照射を行い、分子間に架橋を形成させて当該部分のみの流動性を低下させてから、当該部分以外を除去することによって、所定のパターンだけを選択的に基板上に残し、これを600°C〜700°Cで加熱処理することによって、有機官能基部分が酸化除去すると共に結晶化を起させることによって、基板上に所定のパターンに沿った強誘電体薄膜の微細パターンを形成する。【化1】
請求項（抜粋）：
化1に示されるポリマーに電磁波あるいは粒子線に感応して該ポリマー間に架橋を形成させる官能基を有する化合物を縮合させて作成される感応性ポリマーを含む強誘電体薄膜微細パターン形成剤。【化1】
IPC (3件)：
C08G 79/00 NUR
, G03F 7/004 511
, G03F 7/038 505
