特許

J-GLOBAL ID：200903048933582386

対称過受光型ポリゴンレーザスキャナ

発明者： ディビッド ケスラー
出願人/特許権者： イーストマン・コダツク・カンパニー
代理人 (1件)： 吉田 研二 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-152360
公開番号（公開出願番号）：特開平6-059209
出願日： 1993年06月23日
公開日（公表日）： 1994年03月04日
要約：

【要約】【構成】 レーザ走査装置16は、光軸18と、ビームを生成するレーザビーム成形器20と、複数の鏡切面26を有する回転ポリゴンミラー24とを有する。前記ビームは、前記回転ポリゴンミラー24の方向に向けられ、前記鏡切面26のうちの少なくとも1面を完全に満たし、隣接する鏡切面上に溢れる。この鏡切面からの反射ビームは、光軸18に対して対称的に走査される。【効果】 レーザによりビームを生成し、前記ビームをポリゴンミラーの鏡切面の1面又は1面以上に照射し、かつ、前記鏡切面からの反射ビームを前記レーザの光軸に対して対称的な領域とすることにより、前記レーザビームのポリゴンミラーからの反射ビームを効率良く取り出し、光路全体での光損失を小さくし、さらに、走査光学素子の設計を容易とし、低価格な対称過受光型ポリゴンレーザスキャナを実現する。

請求項（抜粋）：

光軸を有するレーザ走査装置であって、ビームを生成するレーザ光源と、複数の鏡切面を有する回転ポリゴンミラーと、前記ビームが前記鏡切面のうち少なくとも1面を完全に満たすと共に隣接した鏡切面にも溢れ出るように、前記ビームを前記ポリゴンミラーの方向へ向ける手段と、を備え、更に、前記ビームが前記回転ポリゴンミラーから反射され、この反射ビームが前記光軸に対して対称的に位置決めされる、ことを特徴とするレーザ走査装置。

IPC (2件)：

G02B 26/10 102 ,  H04N 1/04 104

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平3-080214
  
• 特開昭60-233616
  
• 特開平3-080214
  
• 特開昭60-233616