特許
J-GLOBAL ID:200903048937236148

軟磁性多層膜及びその製造方法並びに高周波磁気デバイス

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 吉田 研二 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-293598
公開番号(公開出願番号):特開2001-118727
出願日: 1999年10月15日
公開日(公表日): 2001年04月27日
要約:
【要約】【課題】 耐熱性に優れた軟磁性多層膜を得る。【解決手段】 従来の軟磁性多層膜の構成である、軟磁性薄膜20/無機絶縁膜21/軟磁性多層膜において、軟磁性薄膜20と無機絶縁膜21との間に、非磁性金属薄膜22を設ける。非磁性金属薄膜22は、例えばTi膜で構成され、加熱処理による無機絶縁膜21からのOやNの侵入を防ぎ、耐熱性を向上させる。
請求項(抜粋):
軟磁性膜と無機絶縁膜を交互に積層してなる軟磁性多層膜において、前記軟磁性膜と前記無機絶縁膜との間に、前記無機絶縁膜の酸化因子が前記軟磁性膜に侵入するのを防ぐ防止膜が設けられることを特徴とする軟磁性多層膜。
Fターム (7件):
5E049AA04 ,  5E049AA09 ,  5E049AC05 ,  5E049BA14 ,  5E049BA16 ,  5E049DB04 ,  5E049DB12
引用特許:
審査官引用 (4件)
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