特許

J-GLOBAL ID：200903048940548029

プラズマ処理装置およびプラズマクリーニング方法

発明者： 関谷 秀徳 ,  白川 憲次
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 高田 守 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-222766
公開番号（公開出願番号）：特開平5-062936
出願日： 1991年09月03日
公開日（公表日）： 1993年03月12日
要約：

【要約】【目的】 エッチングにより発生してチャンバの内壁面に付着した反応生成物をプラズマクリーニングにより確実に除去する【構成】 チャンバ50の内壁面に、絶縁体92を介して第1ないし第3の導電ブロック90a〜90cを取り付ける。チャンバ50の内部空間51に反応ガスを導入しながら、第1の電極61と、各導電ブロック90a,90b,90cとの間に順次に高周波電界を印加し、反応ガスのプラズマを発生させる。そしてその反応ガスのプラズマにより各導電ブロック90a,90b,90cに付着した反応生成物を順次にガス化してチャンバ50の外部に排出する。【効果】 チャンバ50の内部に付着した反応生成物が確実に除去される。

請求項（抜粋）：

被処理物にプラズマ処理を施すためのプラズマ処理装置であって、(a) 内部空間を有するチャンバと、(b) 前記チャンバに接続され、前記チャンバの前記内部空間に反応ガスを導入するための反応ガス供給機構と、(c) 前記チャンバに接続された排気機構と、(d) 前記チャンバの前記内部空間に配置されるとともに、前記被処理物を載置可能な第1の電極導電体と、(e) 前記チャンバの前記内部空間に前記第1の電極導電体に対向して配置されるとともに、前記第1の電極導電体から電気的に絶縁された第2の電極導電体と、(f) 前記チャンバから電気的に絶縁された状態で前記チャンバの内壁面に取り付けられ、かつ前記第1および前記第2の電極導電体から電気的に絶縁された導電ブロックと、(g) 前記第1の電極導電体、前記第2の電極導電体、および前記導電ブロックに接続され、前記第1と前記第2の電極導電体の間へ電圧を供給する第1の電圧供給モードと、前記第1および前記第2の電極導電体のうちいずれか一方の電極導電体と前記導電ブロックとの間へ電圧を供給する第2の電圧供給モードと、を相互に切換え可能な選択的電圧供給手段と、を備えたプラズマ処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/302 ,  C23C 14/02