特許
J-GLOBAL ID：200903048943464500
測長校正法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-209075
公開番号（公開出願番号）：特開平6-058753
出願日： 1992年08月05日
公開日（公表日）： 1994年03月04日
要約：
【要約】【目的】本発明は、原器および複製を使用せず、結晶学的に規定されるすなわち普遍的な物理量を利用することにより、全ての試料が絶対標準となり得、高さ10-10 から10-9mの距離を直接的に校正できる測長校正法を提供することを目的とする。【構成】本発明は、接触型もしくは非接触型表面形状観察装置において、表面に垂直方向に測定される距離の絶対値を、シリコン基板1の表面に存在する結晶学的に定義される階段状のステップ6〜8を用いて校正する。
請求項（抜粋）：
接触型もしくは非接触型表面形状観察装置において、表面に垂直方向に測定される距離の絶対値を、単一元素もしくは複数元素からなる結晶の表面に存在する結晶学的に定義される階段状の段差を用いて校正することを特徴とする測長校正法。
引用特許：
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