特許
J-GLOBAL ID:200903048962991210

面状コイル装置およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山口 巖
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-149626
公開番号(公開出願番号):特開平9-330817
出願日: 1996年06月12日
公開日(公表日): 1997年12月22日
要約:
【要約】【課題】高いQ値を持ち得ると共に、少ない工程数で製造できるように改良された面状コイル装置およびその製造方法を提供する。【解決手段】面状コイル装置1は、スパイラル状のコイル2の構造と製造方法に大きな特徴を持っている。コイル2の導体部は、感光性ポリイミド製の側部電気絶縁層13にフォトリソグラフィ法で形成された溝部13aをメッキパターンとして、下側電気絶縁膜11の表面にスパッタ法で導電粒子が離散的に形成されてなるメッキ下地層12の上に、無電解メッキ法で形成された無電解メッキ導体層21と、無電解メッキ導体層21を通電層として用いて電解メッキ法で形成された電解メッキ導体層22とで構成されている。
請求項(抜粋):
面状に形成された下側電気絶縁層と、下側電気絶縁層の表面上に導電性粒子が離散的に付着されることで形成されたメッキ下地層と、メッキ下地層の上に,樹脂材を用いコイル導体用の溝部を有して形成された側部電気絶縁層と、メッキ下地層の上の前記の溝部が形成された部位に,少なくともメッキ下地層側については無電解メッキ法により形成されたコイル導体と、側部電気絶縁層の前記の溝部を除く部分の上面部およびコイル導体の上面部を覆い樹脂材を用いて形成された上側電気絶縁層とを備えたことを特徴とする面状コイル装置。
IPC (2件):
H01F 17/00 ,  H01F 41/04
FI (2件):
H01F 17/00 B ,  H01F 41/04 C
引用特許:
審査官引用 (3件)

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