特許
J-GLOBAL ID：200903048974873778
高光線透過性防塵膜、その製造方法および防塵体
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
柳原 成
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-267956
公開番号（公開出願番号）：特開平5-043238
出願日： 1991年10月16日
公開日（公表日）： 1993年02月23日
要約：
【要約】【目的】 柔軟性があって、g線、i線はもちろんのこと、エキシマレーザー等の短波長光を長期間照射しても光分解を起さず、かつ高い光線透過率を有する高光線透過性防塵膜を得る。またこのような防塵膜を短時間で簡単に製造する。【構成】 加水分解可能な有機金属化合物、金属酸化物の微粒子、金属水酸化物の微粒子、金属塩化物および金属硝酸塩からなる群から選ばれる少なくとも一種を含有するゾルを調製し、このゾルから膜状のゲルを形成し、得られたゲルを10°Cないし500°Cの温度で乾燥して高光線透過性防塵膜を製造する。このようにして得られた防塵膜に、さらに反射防止膜を形成してもよい。
請求項（抜粋）：
金属酸化物、金属水酸化物、有機基含有金属酸化物および有機基含有金属水酸化物からなる群から選ばれる少なくとも一種を含有する透明なゲルからなることを特徴とする高光線透過性防塵膜。
IPC (6件)：
C01G 23/053
, C01B 33/12
, C01G 25/02
, G03F 1/14
, H01L 21/027
, B32B 15/08
