特許
J-GLOBAL ID：200903048988620333
薄膜の膜厚評価方法および膜厚評価装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
志賀 正武 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-115670
公開番号（公開出願番号）：特開平7-318321
出願日： 1994年05月27日
公開日（公表日）： 1995年12月08日
要約：
【要約】【目的】 簡便かつ高精度の膜厚評価を可能にする薄膜の膜厚評価方法および膜厚評価装置を提供する。【構成】 所定の波長の光を膜厚未知の薄膜に入射し、該薄膜の透過率および反射率を測定し、これら透過率および反射率と前記薄膜の屈折率及び減衰係数とから前記薄膜の膜厚を求めることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
所定の波長の光を膜厚未知の薄膜に入射し、該薄膜の透過率および反射率を測定し、これら透過率および反射率と前記薄膜の屈折率及び減衰係数とから前記薄膜の膜厚を求めることを特徴とする薄膜の膜厚評価方法。
IPC (2件)：
引用特許：
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