特許

J-GLOBAL ID：200903048997781935

多層エピタキシャル成長装置用融液供給装置

発明者： 野村 重彦
出願人/特許権者： 日新製鋼株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-127996
公開番号（公開出願番号）：特開平7-315985
出願日： 1994年05月19日
公開日（公表日）： 1995年12月05日
要約：

【要約】【目的】成長用融液ホルダーとシャッターが互いに摩擦することを防止して、寿命を延ばすとともに、摩擦面を常に良好な状態として、成長用融液の外部への流出を未然に防ぐ。【構成】この融液供給装置は、複数種類の成長用融液を収容する融液ホルダー9と成長用融液を順次基板結晶列ホルダー6内に供給する為にシャッター機能を有する蓋体6aと、その摩擦面にそれぞれに脱着可能かつ固定できる黒鉛薄板11,12を装着している。

請求項（抜粋）：

複数種類の成長用融液を収容する融液溜めが放射状に設けられた成長用融液ホルダーと、成長用融液を順次基板結晶列ホルダー内に供給するためのシャッター機能を有する蓋体の間に脱着可能な2枚の薄板を設置し、成長用融液ホルダーと蓋体が摩擦することを防止することを特徴とする多層エピタキシャル成長装置用融液供給装置。