特許
J-GLOBAL ID:200903049000991923

薄膜製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 古谷 馨 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-152180
公開番号(公開出願番号):特開平10-001770
出願日: 1996年06月13日
公開日(公表日): 1998年01月06日
要約:
【要約】【課題】 多層薄膜の成膜に際して各層の膜厚及び/又は特性をモニタしながら成膜することを可能にする製造方法の提供。【解決手段】 基体上に2層以上の薄膜を成膜することからなる薄膜製造方法において、例えば開口幅の異なるマスク12、13を用いることにより、上層側の薄膜を下層側の薄膜よりも幅広に成膜する。各層の成膜時には透過率計14、15により各層の膜厚及び/又は特性を測定する。2層目以降の各層の膜厚及び/又は特性は幅広部分において測定される。
請求項(抜粋):
基体上に2層以上の薄膜を成膜することからなる薄膜製造方法において、上層側の薄膜を下層側の薄膜よりも幅広に成膜することを特徴とする、薄膜製造方法。
IPC (3件):
C23C 14/30 ,  G11B 5/85 ,  H01F 41/16
FI (3件):
C23C 14/30 A ,  G11B 5/85 A ,  H01F 41/16

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