特許
J-GLOBAL ID：200903049010085360
耐熱性光学素子の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
斉藤 武彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-354206
公開番号（公開出願番号）：特開平5-142510
出願日： 1991年11月22日
公開日（公表日）： 1993年06月11日
要約：
【要約】【目的】 液晶性高分子を使用した耐熱性に優れた光学素子の製造法を提供する。【構成】 透光性基板と該基板上に形成された配向膜と、該配向膜上に形成された、液晶状態でネマチック配向またはねじれネマチック配向し、液晶転移点以下ではガラス状態となる熱重合する液晶性高分子からなる膜から構成される光学素子の製造方法において、液晶性高分子層を配向処理時または配向固定後に液晶性高分子の重合が進行する温度で熱処理する。
請求項（抜粋）：
透光性基板と該基板上に形成された配向膜と、該配向膜上に形成された、液晶状態でネマチック配向またはねじれネマチック配向し、液晶転移点以下ではガラス状態となる熱重合する液晶性高分子からなる膜から構成される光学素子の製造方法において、液晶性高分子層を配向処理時および/または配向固定後に液晶性高分子の重合が進行する温度で熱処理することを特徴とする耐熱性光学素子の製造方法。
引用特許：
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