改善されたパターン認識適応コントローラ

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：三好秀和 , 伊藤正和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-195790
公開番号（公開出願番号）：特開2005-044349
出願日： 2004年07月01日
公開日（公表日）： 2005年02月17日
要約：

【課題】システム変化を補償するためにコントローラの制御パラメータを調整する方法を提供する。【解決手段】閉ループ応答を特徴付けるパターンに基づく比例ゲイン(利得)および積分時間制御パラメータを動的に調整すべく形成されたパターン認識適応コントローラは、制御された変数を表すサンプルされた信号を受信し、そして前記サンプルされた信号に基づいて平滑化された信号を判定する。該コントローラは、前記サンプルされた信号の推定ノイズレベルを判定し、且つあらかじめ定義された基準に基づいて、制御出力およびプロセス出力を判定する。これらの判定の結果に基づいて、該コントローラは、前記ゲインおよび積分時間を変化しないままとするか、新たなゲインおよび積分時間を決定する。調整された制御パラメータは、その後アクチュエータを制御し、それによって該コントローラをプロセスに作用させる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

プロセスに作用するアクチュエータを制御すべく設けられた比例ゲインおよび積分時間コントローラの制御パラメータを動的に調整する方法であって、サンプルされた信号を生成するためにプロセスの制御された変数を表すフィードバック信号をサンプリングすることと、前記サンプルされた信号に基づいて平滑化された信号を生成することと、前記サンプルされた信号の推定ノイズレベルを判定することと、あらかじめ定義された基準に基づいて、制御出力およびプロセス出力が、高速で発振しているかどうかを判定することと、制御出力およびプロセス出力が高速で発振している場合、前記コントローラによって使用されるゲインを調整することと、前記アクチュエータを制御するために前記調整された制御パラメータを利用し、それによって前記コントローラをプロセスに作用させることとを含む方法。

IPC (1件)：

G05B13/02

FI (1件)：

G05B13/02 A

Fターム (12件)：

5H004GA08 , 5H004GB20 , 5H004KB02 , 5H004KB04 , 5H004KB28 , 5H004KC05 , 5H004KC08 , 5H004KC12 , 5H004KC39 , 5H004KC48 , 5H004MA42 , 5H004MA43

引用特許：

審査官引用 (2件)

特開昭58-168106
特開昭58-168106

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