特許
J-GLOBAL ID:200903049062754537

光学基板の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 船橋 國則
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-341277
公開番号(公開出願番号):特開平10-142590
出願日: 1996年12月20日
公開日(公表日): 1998年05月29日
要約:
【要約】【課題】 レンズ部の集光効率を高めるとともに、基板位置合わせを正確に行えるようにすること。【解決手段】 本発明の光学基板の製造方法は、基台ガラス1上に保護膜2を塗布し、この基台ガラス1の少なくともレンズ部Rを形成する位置と対応する保護膜2を除去するフォトリソグラフィーを行う工程と、この保護膜2をマスクとして基台ガラス1を削り、レンズ部2を形成する位置に所定の凹部R’を形成するとともにアライメントマーク部となる凹部を形成する工程と、凹部R’を埋めるよう基台ガラス1上に低融点ガラスペースト3を塗布する工程と、低融点ガラスペースト3を焼成してガラス化を図る工程とから成る。
請求項(抜粋):
基台ガラス上に保護膜を塗布し、該基台ガラスの少なくともレンズ部を形成する位置と対応する該保護膜を除去するフォトリソグラフィーを行う工程と、前記保護膜をマスクとして前記基台ガラスを削り、前記レンズ部を形成する位置に所定の凹部を形成する工程と、前記凹部を埋めるよう前記基台ガラス上に低融点ガラスペーストを塗布する工程と、前記低融点ガラスペーストを焼成してガラス化を図る工程とから成ることを特徴とする光学基板の製造方法。
IPC (2件):
G02F 1/1333 500 ,  G09F 9/30 310
FI (2件):
G02F 1/1333 500 ,  G09F 9/30 310
引用特許:
審査官引用 (8件)
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