特許

J-GLOBAL ID：200903049092247052

ガスハイドレートの製造装置および製法

発明者： 永森 茂 ,  小野 純二 ,  永田 健一
出願人/特許権者： 三井造船株式会社
代理人 (1件)： 川北 武長
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-120400
公開番号（公開出願番号）：特開2000-309548
出願日： 1999年04月27日
公開日（公表日）： 2000年11月07日
要約：

【要約】【課題】 水と天然ガスのようなメタンを主成分とするガスからメタンハイドレートを工業的に連続して製造することができる装置および製法を提供する。【解決手段】 冷却手段を有する筒状容器と、該筒状容器内に供給される水または不凍液と、前記水または不凍液中に、メタンを主成分とするガスと水蒸気とを所定割合で混合した原料ガスを噴射するノズルと、前記筒状容器内で生成したメタンハイドレートを外部へ排出する手段とを有するガスハイドレートの製造装置。

請求項（抜粋）：

冷却手段を有する筒状容器と、該筒状容器内に供給される水または不凍液と、前記水または不凍液中に、メタンを主成分とするガスと水蒸気とを所定割合で混合した原料ガスを噴射するノズルと、前記筒状容器内で生成したメタンハイドレートを外部へ排出する手段とを有するガスハイドレートの製造装置。

IPC (3件)：

C07C 5/00 ,  C07C 7/20 ,  C07C 9/04

FI (3件)：

C07C 5/00 ,  C07C 7/20 ,  C07C 9/04

Fターム (8件)：

4H006AA02 ,  4H006AA04 ,  4H006AC93 ,  4H006BC10 ,  4H006BC11 ,  4H006BD81 ,  4H006BD84 ,  4H006BE60