特許
J-GLOBAL ID：200903049097060317
化学吸着膜の気相製造法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
池内 寛幸 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-337317
公開番号（公開出願番号）：特開平5-168913
出願日： 1991年12月19日
公開日（公表日）： 1993年07月02日
要約：
【要約】【目的】 真空状態又は不活性ガス雰囲気下で、活性水素を表面に有する基板表面にシラン系界面吸着剤を気相状態で反応させることにより、機械的に強固で均一な膜厚、かつコンタミの少ない高性能な単分子膜または累積膜を形成する。【構成】 真空容器内で、シラン系界面吸着剤を基板1表面上の親水性基と化学反応させシロキサン結合を形成させて化学吸着単分子膜を形成した後、真空排気により過剰の分子を除去して均一な単分子膜2を形成する。また真空容器内で、複数の塩素-珪素化学結合を有する直鎖状炭素鎖を含む物質を、基板に化学吸着させ、反応性ガスを導入して未反応の塩素-珪素化学結合をシラノール基に変えて単分子膜を形成するか、この工程を繰返して累積膜を形成してもよい。
請求項（抜粋）：
表面に活性水素基を有する基板の表面に化学吸着膜を形成する方法であって、まず前記基板を容器内に配置して真空排気を行うかまたは非水系ガス雰囲気下で、一端に反応性珪素基を有するシラン系界面吸着剤を前記基材表面に気相状態で接触させ脱水塩化水素反応または脱アルコール反応により基板表面に吸着膜を形成することを特徴とする化学吸着膜の気相製造法。
IPC (2件)：
引用特許：
前のページに戻る
