特許
J-GLOBAL ID：200903049100146481
含窒素ペルフルオロアルキルブロミドの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (2件)：
工業技術院 名古屋工業技術試験所長 (外1名)
, 阿形 明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-073166
公開番号（公開出願番号）：特開平5-229992
出願日： 1992年02月25日
公開日（公表日）： 1993年09月07日
要約：
【要約】【構成】 一般式【化1】(Rf1,Rf2はC1〜5のペルフルオロアルキル基で、両者は直接又はO若しくはNを介して結合し、複素環を形成していてもよく、nは2〜8の整数である)で表わされる含窒素ペルフルオロカルボン酸ブロミドを紫外線照射下に脱カルボニル化して、一般式【化2】(Rf1,Rf2,nは前記と同じ意味をもつ)で表わされる含窒素ペルフルオロアルキルブロミドを製造する。【効果】 合成中間体や、ハロン系消化剤、トランス油や電気絶縁油の難燃性添加剤、X線造影剤などとして有用な含窒素ペルフルオロアルキルブロミドが、容易に入手しうる原料から簡単な操作で収率よく得られる。
請求項（抜粋）：
一般式【化1】(式中のRf1及びRf2はそれぞれ同一又はたがいに異なる炭素数1〜5のペルフルオロアルキル基であって、両者は直接に、あるいは酸素原子又は窒素原子を介して結合し、両者が結合している窒素原子とともに複素環を形成していてもよく、nは2〜8の整数である)で表わされる含窒素ペルフルオロカルボン酸ブロミドを、紫外線照射下に脱カルボニル化させることを特徴とする、一般式【化2】(式中のRf1、Rf2及びnは前記と同じ意味をもつ)で表わされる含窒素ペルフルオロアルキルブロミドの製造方法。
IPC (11件)：
C07C211/15
, A62D 1/00
, C07C209/68
, C07D207/10
, C07D211/38
, C07D223/04
, C07D241/04
, C07D241/16
, C07D265/30
, C09K 21/10
, A61K 49/04
