特許
J-GLOBAL ID：200903049105578665
大型基板の乾燥方法および乾燥装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
池田 治幸 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-235585
公開番号（公開出願番号）：特開平10-082583
出願日： 1996年09月05日
公開日（公表日）： 1998年03月31日
要約：
【要約】【課題】厚膜印刷でパターン形成された大型基板を乾燥するに際して、面内の温度分布を均一にしつつ短時間で乾燥し得る乾燥方法、乾燥装置を提供する。【解決手段】基板10を停止位置80毎に停止させつつ間歇的に搬送する搬送部34と、停止位置80の各々において遠赤外線放射体44が基板10に対向して設けられ、遠赤外線の放射発散度が面状ヒータ42毎に制御される複数のヒータ38と、その面状ヒータ42毎の遠赤外線の放射発散度を、基板10を構成する複数の領域毎に各々の温度上昇特性に応じた遠赤外線の放射照度となるように複数のヒータ38毎に制御する制御装置40とを、含んで乾燥装置30が構成される。そのため、基板10は、間歇的に搬送される過程で領域毎の温度上昇特性に応じた放射照度の遠赤外線を照射されて均一に温度上昇させられて乾燥させられる。
請求項（抜粋）：
所定パターンで厚膜ペーストが塗布された大型基板を乾燥する方法であって、前記大型基板を一方向に沿って設けられた複数の停止位置に間歇的に移動させる移動工程と、前記複数の停止位置の各々において、前記大型基板を構成する複数の領域毎に各々の温度上昇特性に応じて温度上昇し難い領域程高い放射照度の遠赤外線を照射することにより前記大型基板を均一に加熱する加熱工程とを、含むことを特徴とする大型基板の乾燥方法。
IPC (7件)：
F26B 3/30
, F26B 15/00
, F26B 23/04
, F26B 25/00
, G02F 1/1333 500
, G03F 7/38 501
, H01L 21/304 361
F26B 3/30
, F26B 15/00 A
, F26B 23/04 B
, F26B 25/00 A
, G02F 1/1333 500
, G03F 7/38 501
, H01L 21/304 361 H
