特許
J-GLOBAL ID：200903049112935597
基板の周縁露光装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
永井 冬紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-060421
公開番号（公開出願番号）：特開平6-275518
出願日： 1993年03月19日
公開日（公表日）： 1994年09月30日
要約：
【要約】【目的】 外周形状が不連続に変化する部分を有する基板でも、精度良くかつ安定して周縁露光を行なうことが可能な周縁露光装置を提供する。【構成】 露光光束Eを照射可能な照射手段101を基板100の周縁部に沿って移動させるとき、照射手段101と基板100の露光幅方向の相対位置の目標値からの偏差に対応した偏差信号を出力する偏差信号出力手段102と、偏差信号に基づいて偏差が小さくなるように相対位置を制御する相対位置制御手段103とを備えた周縁露光装置に、偏差信号に基づいて基板100の周縁部上の制御不安定領域を検出する不安定領域検出手段104と、照射手段101を基板100の周縁部に沿って相対移動させる際、照射手段101が検出された制御不安定領域に達すると相対位置制御手段103の偏差信号に対するサーボゲインを低下させるゲイン変更手段105とを設ける。
請求項（抜粋）：
基板に対して露光光束を照射可能な照射手段と、前記照射手段を前記基板の周縁部に沿って相対移動させるとき、当該照射手段と前記基板の露光幅方向の相対位置の目標値からの偏差に対応した偏差信号を出力する偏差信号出力手段と、前記偏差信号に基づいて前記偏差が小さくなるように前記相対位置を制御する相対位置制御手段とを備えた基板の周縁露光装置において、前記偏差信号に基づいて前記基板の周縁部上の制御不安定領域を検出する不安定領域検出手段と、前記照射手段を前記基板の周縁部に沿って相対移動させる際、前記照射手段が検出された前記制御不安定領域に達すると前記相対位置制御手段の前記偏差信号に対するサーボゲインを低下させるゲイン変更手段と、を設けたことを特徴とする基板の周縁露光装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
, G03F 9/00
