特許

J-GLOBAL ID：200903049114608208

高周波処置具

発明者： 吉嶺 英人
出願人/特許権者： オリンパス光学工業株式会社
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-317856
公開番号（公開出願番号）：特開2000-140118
出願日： 1998年11月09日
公開日（公表日）： 2000年05月23日
要約：

【要約】【課題】本発明は、電極部分を治療部位に確実に押し当てると共に治療が必要とする範囲に限定して高周波電流を流して効率良く処置することができる高周波処置具を提供することにある。【解決手段】本発明は、体腔内に挿入される挿入部材の先端部付近にバルーン3を設け、このバルーン3の外表面に複数の電極を配置してバイポーラ型電極8を構成し、上記バルーン3を膨らませて上記バイポーラ型電極8を体腔内の処置対象部位に押し当てて高周波電流を流すようにした。

請求項（抜粋）：

体腔内に挿入される挿入部材の先端部付近にバルーンを設け、このバルーンの外表面に複数の電極を配置してバイポーラ型電極を構成し、上記バルーンを膨らませて上記バイポーラ型電極を体腔内の処置対象部位に押し当てて高周波電流を流すようにしたことを特徴とする高周波処置具。

IPC (4件)：

A61M 25/00 ,  A61B 17/22 330 ,  A61B 18/12 ,  A61B 18/16

FI (5件)：

A61M 25/00 410 D ,  A61B 17/22 330 ,  A61B 17/39 310 ,  A61B 17/39 330 ,  A61M 25/00 410 H

Fターム (3件)：

4C060KK03 ,  4C060KK06 ,  4C060KK10