特許
J-GLOBAL ID：200903049119430873
フォトマスクの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岩佐 義幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-286265
公開番号（公開出願番号）：特開平8-076360
出願日： 1994年11月21日
公開日（公表日）： 1996年03月22日
要約：
【要約】【目的】 製造環境での使用に適し、多様なパターン形状の任意個所に対応し、計算量が少なく、高速な近接効果補正を施したフォトマスクの製造方法を提供する。【構成】 レジスト上に転写されるべき設計パターンの輪郭を分割することにより、その分割された個々の個所に対する補正パターンの幅を、代数方程式を解く計算を含むステップによって求める。一つの補正個所について、繰り返し計算を必要とせず、計算量の少ない高速な補正を加えることができる。また、補正前の設計パターンを用いた計算方法なので、フォトマスク上の任意パターンの任意の個所において、必要とされる補正量を算出することができる。
請求項（抜粋）：
フォトレジスト上に転写されるべき設計パターンの輪郭を線分に分割し、前記線分に沿って補正パターンを前記設計パターンに追加あるいは削除したパターンをフォトマスクパターンとして用いるフォトマスクの製造方法であって、前記補正パターンの長さは前記線分の長さとし、前記補正パターンの幅を、前記設計パターンおよび前記線分の長さより決定される数を係数とする代数方程式を解くことにより求めることを特徴とするフォトマスクの製造方法。
IPC (2件)：
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