特許

J-GLOBAL ID：200903049143324413

フラックスの洗浄方法

発明者： 藤森 城次 ,  児玉 邦雄 ,  鎌田 修 ,  松井 弘之 ,  庄子 英明
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 石田 敬 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-135129
公開番号（公開出願番号）：特開平8-330265
出願日： 1995年06月01日
公開日（公表日）： 1996年12月13日
要約：

【要約】【目的】 フラックス洗浄工程での再酸化を防止すること。【構成】 半導体装置で半田とフラックスを使用する工程でアルコールと有機溶剤で洗浄し、かつ水を用いないフラックス洗浄方法。

請求項（抜粋）：

半導体装置で半田とフラックスを使用する工程において、フラックスの洗浄を有機溶剤とアルコールで行ない、かつ水を使用しないことを特徴とするフラックスの洗浄方法。

IPC (8件)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  B23K 1/00 ,  B23K 1/00 330 ,  C11D 7/24 ,  C11D 7/26 ,  C11D 7/50 ,  H05K 3/26

FI (9件)：

H01L 21/304 341 M ,  H01L 21/304 341 L ,  B23K 1/00 F ,  B23K 1/00 Y ,  B23K 1/00 330 E ,  C11D 7/24 ,  C11D 7/26 ,  C11D 7/50 ,  H05K 3/26