特許
J-GLOBAL ID:200903049155856488

液晶表示素子の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高橋 敬四郎 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-253782
公開番号(公開出願番号):特開平11-095224
出願日: 1997年09月18日
公開日(公表日): 1999年04月09日
要約:
【要約】【課題】 光配向処理により異なるプレティルト方向を持つ異なる小領域を形成する場合に、マスク処理を1回だけですませる液晶表示素子の製造方法を得ることを課題とする。【解決手段】 本発明による液晶表示素子の製造方法は、以下の工程を含む。光に感応し、液晶分子を平均的に表面に対して所定方向に配向させる性質を有する配向材料の膜を基板表面に形成する。この配向材料の膜に、1回目の照射工程でその面法線から傾いた第1の方向から光を照射する。前記照射工程で光を照射した配向材料の膜の一部を遮光手段で遮光し、2回目の照射工程で、前記第1の方向とは異なる第2の方向から光を照射する。
請求項(抜粋):
光に感応し、液晶分子を平均的に表面に対して所定方向に配向させる性質を有する配向材料の膜を基板表面に形成する工程と、前記配向材料の膜に、その面法線から傾いた第1の方向から光を照射する第1の照射工程と、前記第1の照射工程で光を照射した前記配向材料の膜の一部を遮光手段で遮光し、一部が遮光された前記配向材料の膜に前記第1の方向とは異なる第2の方向から光を照射する第2の照射工程とを有する液晶表示素子の製造方法。

前のページに戻る