特許
J-GLOBAL ID：200903049183627214
ポジ型フォトレジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-261623
公開番号（公開出願番号）：特開平9-106070
出願日： 1995年10月09日
公開日（公表日）： 1997年04月22日
要約：
【要約】【課題】 高い感度、解像力を有し、優れた断面形状のレジストパターンを形成でき、得られるレジスト像が耐熱性に優れ、デフォーカスラチチュードが広く、更に微小なコンタクトホールをあけるのに適したポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】 下記一般式(1)、(2)、(3)の中から選ばれる少なくとも1種のポリヒドロキシ化合物のキノンジアジドスルホン酸エステル及びアルカリ可溶性樹脂を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。
請求項（抜粋）：
下記一般式(1)、(2)、(3)の中から選ばれる少なくとも1種のポリヒドロキシ化合物のキノンジアジドスルホン酸エステル及びアルカリ可溶性樹脂を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】【化2】R1、R2:同じでも異なっても良く、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アシル基、アルケニル基、アラルキル基、アルコキシカルボニル基、アリールカルボニル基、アシロキシ基、ニトロ基、もしくはシアノ基を表す。R3:水素原子、アルキル基を表す。n:1〜3の整数、m:1もしくは2、x,y:1〜3の整数、z:1〜3の整数。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 7/022
, H01L 21/30 502 R
