特許
J-GLOBAL ID:200903049186860866
透明導電性フィルムおよびその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
山本 秀策
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-028911
公開番号(公開出願番号):特開2001-283645
出願日: 1992年12月22日
公開日(公表日): 2001年10月12日
要約:
【要約】【課題】 水蒸気バリヤー性、酸素バリヤー性、導電性および透明性に優れ、かつフィルム基板と透明バリヤー性薄膜との付着力が大きい透明導電性フィルムおよびその製造方法を提供する。【解決手段】 透明フィルム基板上に、ケイ素酸化物を主体とする金属酸化物、またはケイ素窒化物を主体とする金属窒化物の透明バリヤー性薄膜が20〜100nmの厚みで形成され、さらにインジウム酸化物を主体とする金属酸化物の透明導電性薄膜が20〜200nmの厚みで形成された透明導電性フィルムであって、該フィルム基板を含む透明バリヤー性薄膜の酸素透過度が1ml/m2/日以下および水蒸気透過度が1g/m2/日以下であり、かつフィルム基板と透明バリヤー性薄膜との付着力が100g/cm以上である、透明導電性フィルム。
請求項(抜粋):
透明フィルム基板上に、ケイ素酸化物を主体とする金属酸化物、またはケイ素窒化物を主体とする金属窒化物の透明バリヤー性薄膜が20〜100nmの厚みで形成され、さらにインジウム酸化物を主体とする金属酸化物の透明導電性薄膜が20〜200nmの厚みで形成された透明導電性フィルムであって、該フィルム基板を含む透明バリヤー性薄膜の酸素透過度が1ml/m2/日以下および水蒸気透過度が1g/m2/日以下であり、かつフィルム基板と透明バリヤー性薄膜との付着力が100g/cm以上である、透明導電性フィルム。
IPC (7件):
H01B 5/14
, B32B 7/02 104
, B32B 9/00
, B32B 27/36
, C23C 14/06
, C23C 14/08
, H01B 13/00 503
FI (7件):
H01B 5/14 A
, B32B 7/02 104
, B32B 9/00 A
, B32B 27/36
, C23C 14/06 P
, C23C 14/08 N
, H01B 13/00 503 B
引用特許:
審査官引用 (3件)
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特開昭59-204545
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特開昭61-169240
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特開平4-337208
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