特許
J-GLOBAL ID：200903049198712960
荷電ビーム露光用透過マスク
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-011408
公開番号（公開出願番号）：特開平10-207044
出願日： 1997年01月24日
公開日（公表日）： 1998年08月07日
要約：
【要約】【課題】 データ入力が容易で且つ個々のマスクを識別する個別情報マークの形成が容易にできる荷電ビーム露光用透過マスクを提供することを目的とする。【解決手段】 面方位が(100)である単結晶シリコンウェハ1、3をシリコン酸化膜2で貼り合わせた貼り合わせシリコン基板4を用い、単結晶シリコンウェハ1面に透過孔パターン6及び四点対称式個別情報マーク7、8を形成した後貼り合わせシリコン基板両面に保護膜9を形成し、単結晶シリコンウェハ3上に保護膜パターン9aを作製し、保護膜パターン9aをマスクにして単結晶シリコンウェハ3を熱アルカリ溶液にて異方性ウェットエッチングして開口部11及び12を形成し、保護膜9及び保護膜パターン9a剥離処理して、マスク表面及び透過孔パターン側面に導電膜を形成することにより、荷電ビーム露光用透過マスク13を作製する。
請求項（抜粋）：
荷電ビーム露光法に用いられる透過マスクにおいて、前記透過マスクのマスク固有の番号識別情報の媒体として、四点対称式個別情報マークを用いたことを特徴とする荷電ビーム露光用透過マスク。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F 1/16 B
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 541 R
