特許

J-GLOBAL ID：200903049200189110

液晶パネルの製造方法

発明者： 瀬川 雄司
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 高橋 光男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-354803
公開番号（公開出願番号）：特開平5-173112
出願日： 1991年12月19日
公開日（公表日）： 1993年07月13日
要約：

【要約】【目的】 マトリクスタイプの液晶パネルに用いられるブラックマスクの形成工程を単純化し且つアライメント精度を改善する事を目的とする。【構成】 まず、ポジレジスト3を用いてガラス基板1の表面に透明電極2をパタニングする。このポジレジスト3をそのまま残しておき、重ねて顔料分散レジスト4を塗布する。この状態で背面露光を行なうと、ポジレジスト3により紫外線から遮蔽された顔料分散レジスト4の部分は未感光のまま残される。現像処理を施して未感光の部分を除去し、隣接する透明電極2の間に沿ってブラックマスク5を形成する。

請求項（抜粋）：

ポジ型レジスト膜を用いて透明基板上の透明電極をパタニングした後、残されたポジ型レジスト膜に重ねて有色のレジスト材料を塗布し、前記ポジ型レジストをマスクとして該レジスト材料を透明基板背面から露光し且つ現像する事により透明電極のパタン間に有色のレジスト層からなるブラックマスクを設ける工程を含む事を特徴とする液晶パネルの製造方法。