特許
J-GLOBAL ID：200903049200620318
成膜装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-270651
公開番号（公開出願番号）：特開平7-126842
出願日： 1993年10月28日
公開日（公表日）： 1995年05月16日
要約：
【要約】【目的】この発明は、堆積膜厚並びにその膜質をともに、ウェハ面内で均一に成膜し得る成膜装置を提供しようとするものである。【構成】ウェハ14を保持する保持部12と、この保持部12に対向して設けられたスパッタタ-ゲット16とを具備する。そして、このタ-ゲット16に、ウェハ14に対向する表面の法線が、ウェハ14の中心から見てウェハ14の周縁部分に向かった面16-ta を設けたことを主要な特徴としている。この構成であると、スパッタ原子の多くが、ウェハ14の周縁部に向って飛ぶ。このため、ウェハ14の中央部分において、斜め方向から入射されるスパッタ原子の割合が減少する。よって、結晶方位がそろった緻密な膜を基板全面上に形成でき、薄膜中の比抵抗分布を均一化することができる。
請求項（抜粋）：
基板を保持する保持手段と、前記保持手段に対向して設けられたスパッタタ-ゲットとを具備し、前記スパッタタ-ゲットに、前記基板に対向する表面の法線が基板の中心から見て基板周縁部分に向かう面を設けたことを特徴とする成膜装置。
IPC (2件)：
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