特許

J-GLOBAL ID：200903049203807168

基板処理装置、基板処理方法および記録媒体

発明者： 西原 英夫 ,  増田 充弘
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-133608
公開番号（公開出願番号）：特開平11-329992
出願日： 1998年05月15日
公開日（公表日）： 1999年11月30日
要約：

【要約】【課題】 処理が施される基板の種類を判定した上で判定された基板の種類に適した処理を行うことができる基板処理装置を提供する。【解決手段】 基板を石英窓を介してランプで加熱して処理する基板処理装置において、処理前にランプに矩形波電力を印加する(時刻T2〜T3)。そして、矩形波電力の印加前後の基板の温度変化速度の差から基板の種類を判定し、判定された基板の種類に適合する目標温度プロファイルやPIDパラメータ等に基づいた温度制御を行って基板に処理を施す(時刻T4〜)。これにより、比較的高温の石英窓から放出される放射エネルギーの影響を受けることなく的確に基板の種類を判断することができる。その結果、オペレータが基板の種類等を入力する作業が不要となるとともに基板に誤った処理が施されることも防止することができる。

請求項（抜粋）：

基板に加熱を伴う処理を施す基板処理装置であって、基板を加熱する加熱手段と、基板の温度を測定する測定手段と、処理が施される基板の種類を判定するために前記加熱手段を初期駆動するとともに前記測定手段からの測定結果に基づいて前記基板の種類に応じた判定結果を取得する判定手段と、前記判定結果に基づいて前記加熱手段を制御する制御手段と、を備えることを特徴とする基板処理装置。