特許

J-GLOBAL ID：200903049204078275

排ガス浄化装置と方法

発明者： 石岡 正明 ,  向井 正人
出願人/特許権者： バブコック日立株式会社
代理人 (1件)： 松永 孝義
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-314506
公開番号（公開出願番号）：特開平9-150039
出願日： 1995年12月01日
公開日（公表日）： 1997年06月10日
要約：

【要約】【課題】 少ない触媒量で未反応NH3の排出を抑えながら、高効率脱硝を実現すること。【解決手段】 火炉8からのボイラ燃焼排ガスが垂直(鉛直)方向に流れる脱硝装置1の内に誘導されるが、脱硝装置1内では、ボイラ燃焼排ガスに対して上流側から順に脱硝触媒4とNH3分解触媒2が配置されている。脱硝触媒4の前流側にはNH3注入装置6が設けてあり、脱硝触媒4とNH3分解触媒2の間にはエアヒーター7の出口空気を注入する空気注入装置5が設置されている。脱硝触媒4とNH3分解触媒2の間にエアヒーター出口空気注入装置5が設置されているため、NH3分解触媒2の入口の酸素濃度が高くなる。そのためNH3分解触媒2のNH3分解性能を高くできる。NH3分解触媒2としては、NOxのNH3による還元活性を有する第一成分とNH3からNOxを生成させる活性を有する第2成分とからなる触媒が用いられる。

請求項（抜粋）：

ボイラ燃焼排ガス中の窒素酸化物を、アンモニアの存在下、触媒を用いて除去する排ガス浄化装置において、アンモニア分解性能と脱硝性能を有する多元機能触媒を含む脱硝装置内の前記多元機能触媒の前流にボイラ燃焼排ガス中の酸素よりも濃度の高い酸素を含むガスを注入するガス注入装置を設けたことを特徴とする排ガス浄化装置。

IPC (2件)：

B01D 53/94 ,  B01D 53/86 ZAB

FI (3件)：

B01D 53/36 101 B ,  B01D 53/36 ZAB ,  B01D 53/36 102 H

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭50-026760
  
• 特開昭50-130677
  
• 特開昭63-156523