特許
J-GLOBAL ID：200903049205876655
ルイス酸での引抜きによる均質オレフィン重合触媒
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
斉藤 武彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-205851
公開番号（公開出願番号）：特開平5-194641
出願日： 1992年06月24日
公開日（公表日）： 1993年08月03日
要約：
【要約】【目的】 オレフィン重合触媒として有用な拘束幾何形状をもつカチオン性金属錯体を容易に且つ高収率で製造する改良技術を提供する。【構成】 式 LMX+XA-(Lは金属活性の場に拘束幾何形状を付与する置換脱局在化π結合基;Mは周期律表の第4族またはランタナイド系列の金属;Xはハイドライドあるいはハイドロカルビル、シリルまたはゲルミル基;A-はフェニルビス(パーフルオロフェニル)ボラン以上の相対酸性度をもつルイス酸Aのアニオン)をもつ触媒の製造法であって式LMX2(L,M,Xは前記定義のとおり)に相当する第4族またはランタナイド金属の誘導体をルイス酸Aと接触させることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
式 LMX+XA-(Lは金属活性サイトに拘束幾何形状を付与する且つ50個までの非水素原子を含む置換脱局在化π結合基の誘導体であり;Mは元素の周期律表の第4族またはランタナイド系列の金属であり;Xはそれぞれの場合独立にハイドライドであるか又は20個までの炭素、ケイ素またはゲルマニウムの原子をもつハイドロカルビル、シリルまたはゲルミル基であり;そしてA-はフェニルビス(パーフルオロフェニル)ボラン以上の相対ルイス酸性度をもつルイス酸Aのアニオンであって金属カチオンに匹敵するアニオンである)に相当する限定電荷分離構造をもつ触媒の製造方法であって、その方法の諸工程が式LMX2(L,MおよびXは前記定義のとおりである)に相当する第4族またはランタナイド金属の誘導体をルイス酸Aと接触させることを含むことを特徴とする方法。
IPC (3件)：
C08F 10/00
, C08F 4/60 MFA
, C08F 4/64 MFG
