特許
J-GLOBAL ID：200903049216609497
セラミツク成形体の焼成方法及び焼成装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
宮▼崎▲ 主税
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-199430
公開番号（公開出願番号）：特開平5-043335
出願日： 1991年08月08日
公開日（公表日）： 1993年02月23日
要約：
【要約】【目的】 多数のセラミック成形体表面に均一に雰囲気ガスを供給することができ、かつ各セラミック成形体表面でガス交換された後のガスを均一に排出することを可能とするセラミック成形体の焼成方法を得る。【構成】 焼成炉17の焼成空間18内に匣11を載置し、該匣11内に堆積されている多数のセラミック成形体に、匣11の底面12aに設けられた雰囲気ガス導入口13bから雰囲気ガスを導入することにより、堆積されている多数のセラミック成形体間に雰囲気ガスを導入しつつ、多数のセラミック成形体を焼成する、セラミック成形体の焼成方法。
請求項（抜粋）：
多数のセラミック成形体を収納してなる匣を焼成炉内に配置して上記セラミック成形体を焼成する方法において、前記匣として、内部に堆積されている多数のセラミック成形体に接している内壁部分に雰囲気ガス導入口が設けられた匣を用い、前記雰囲気ガス導入口から雰囲気ガスを匣内に導入しつつセラミック成形体の焼成を行うことを特徴とする、セラミック成形体の焼成方法。
IPC (2件)：
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