特許

J-GLOBAL ID：200903049233974654

顔料のアシッドペースティング処理方法およびアシッドペースティング処理装置

発明者： 本郷 和哉 ,  高橋 徳好 ,  額田 克己 ,  飯島 正和 ,  上條 由紀子 ,  今井 秀樹
出願人/特許権者： 富士ゼロックス株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 芳樹 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-261541
公開番号（公開出願番号）：特開2002-069322
出願日： 2000年08月30日
公開日（公表日）： 2002年03月08日
要約：

【要約】【課題】 結晶型や粒径が十分に均一な顔料を効率よく且つ確実に得ることを可能とする顔料のアシッドペースティング処理方法およびアシッドペースティング処理装置を提供すること。【解決手段】 水またはアルカリ性水溶液を含有する第一の溶液1を流路5aに送液する第一のステップと、顔料および酸を含む第二の溶液7を流路5cを流れる第一の溶液1に注入して顔料を再結晶させる第二のステップと、を含むことを特徴とする顔料のアシッドペースティング処理方法。

請求項（抜粋）：

水またはアルカリ性水溶液を含有する第一の溶液を流路に送液する第一のステップと、顔料および酸を含む第二の溶液を、前記流路を流れる前記第一の溶液に注入して前記顔料を再結晶させる第二のステップと、を含むことを特徴とする顔料のアシッドペースティング処理方法。

IPC (3件)：

C09B 67/14 ,  C09B 47/073 ,  C09B 67/20

FI (3件)：

C09B 67/14 ,  C09B 47/073 ,  C09B 67/20 B