特許
J-GLOBAL ID:200903049239222514
半導体レーザ素子
発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-301290
公開番号(公開出願番号):特開平7-131116
出願日: 1993年11月05日
公開日(公表日): 1995年05月19日
要約:
【要約】【目的】 レーザ特性を向上させた埋め込み型の半導体レーザ素子を提供する。【構成】 ストライプ状に形成され、少なくとも活性層13を含むメサ部分と、該メサ部分の両側を埋め込む、n型InP層12とp型ドーパントを含むp型InP層14で挟まれたFeを含む半絶縁性InP電流阻止層16とを備えた埋め込み型の半導体レーザ素子において、半絶縁性InP電流阻止層16とそれを挟む二つのInP層の一方のp型InP層14との間にノンドープまたはn型のGaInAs(P)層17を挿入する。
請求項(抜粋):
ストライプ状に形成され、少なくとも活性層を含むメサ部分と、該メサ部分の両側を埋め込む、n型InP層とp型ドーパントを含むp型InP層で挟まれたFeを含む半絶縁性InP電流阻止層とを備えた埋め込み型の半導体レーザ素子において、半絶縁性InP電流阻止層とそれを挟む二つのInP層の一方のp型InP層との間にノンドープまたはn型のGaInAs(P)層が挿入されてなることを特徴とする半導体レーザ素子。
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