フォトリソグラフィ工程における重ね合わせ精度測定方法、及びフォトリソグラフィ工程における重ね合わせ精度測定マーク

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-294143
公開番号（公開出願番号）：特開平11-132716
出願日： 1997年10月27日
公開日（公表日）： 1999年05月21日
要約：

【要約】【課題】重ね合わせ精度の測定精度自体の劣化をも測定でき、精度測定用マークの最適化が図れ、プロセス条件の最適化をも実現可能で、効果的な重ね合わせ精度の補正ができ、被露光面全面にわたる高精度な重ね合わせ精度測定ができて、これにより高精度な重ね合わせを達成できる、フォトリソグラフィ工程における重ね合わせ精度測定方法、及び重ね合わせ精度測定マークを提供する。【解決手段】 ?@重ね合わせ精度測定マーク1,2により重ね合わせ精度を測定し該マークの変形を測定することにより重ね合わせ精度測定自体の測定精度の劣化を測定して精度測定自体の測定精度をも測定可能としたフォトリソグラフィ工程における重ね合わせ精度測定方法。?A重ね合わせ精度測定マークにより重ね合わせ精度を測定し、この重ね合わせ精度測定マークによって重ね合わせ精度測定自体の測定精度をも測定可能とした重ね合わせ精度測定マーク。

請求項（抜粋）：

フォトリソグラフィ工程における重ね合わせ精度の測定方法であって、重ね合わせ精度測定マークにより重ね合わせ精度を測定するとともに、この重ね合わせ精度測定マークの変形を測定することにより、重ね合わせ精度測定自体の測定精度の劣化を測定して、これによって重ね合わせ精度測定自体の測定精度をも測定可能としたことを特徴とする、フォトリソグラフィ工程における重ね合わせ精度測定方法。

IPC (3件)：

G01B 11/00 , G03F 9/00 , H01L 21/027

FI (3件)：

G01B 11/00 C , G03F 9/00 H , H01L 21/30 502 V

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