特許
J-GLOBAL ID：200903049268019949
荷電粒子線照射野形成装置およびそのリッジフィルタ
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 明夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-131940
公開番号（公開出願番号）：特開平10-314324
出願日： 1997年05月22日
公開日（公表日）： 1998年12月02日
要約：
【要約】【課題】楔型の構造物の製作に精密な加工を不要となし、かつ製作後においてその微調整が容易なリッジフィルタを提供する。【解決手段】荷電粒子ビーム発生装置と荷電粒子ビームが照射される患部6との間に荷電粒子ビームのエネルギー分布を拡大するリッジフィルタ2を備え、かつこのリッジフィルタが、複数個の楔状部材を並設配置して形成されている荷電粒子線照射野形成装置において、前記リッジフィルタ2を、荷電粒子ビーム通過領域範囲内で穴の大きさが異なる複数の板11を順次荷電粒子ビームの進行方向に積層して形成するようにした。
請求項（抜粋）：
荷電粒子ビーム発生装置と荷電粒子ビームが照射される患部との間に荷電粒子ビームのエネルギー分布を拡大するリッジフィルタを備え、かつこのリッジフィルタが、複数個の楔状部材を並設配置して形成されている荷電粒子線照射野形成装置において、前記リッジフィルタを、荷電粒子ビーム通過領域範囲内で穴の大きさが異なる複数の板を順次荷電粒子ビームの進行方向に積層して形成するようにしたことを特徴とする荷電粒子線照射野形成装置。
FI (2件)：
A61N 5/10 N
, A61N 5/10 H
