特許

J-GLOBAL ID：200903049277132146

炭素材料の製造方法

発明者： 平山 隆之 ,  森田 淑文 ,  佐藤 晴義 ,  大月 裕
出願人/特許権者： 日本石油株式会社
代理人 (1件)： 酒井 一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-162303
公開番号（公開出願番号）：特開平9-012920
出願日： 1995年06月28日
公開日（公表日）： 1997年01月14日
要約：

【要約】【構成】炭素質材料(a)と、アジリジン基、オキサゾリン基、N-ヒドロキシアルキルアミド基、エポキシ基、チオエポキシ基、イソシアネート基、ヒドロキシ基、アミノ基、ビニル基、アクリル基、メタクリル基からなる反応性基および一般式 R1R2R3C-O-CO- (R1、R2、R3:H,C1〜6のアルキル基、C5〜8のシクロアルキル基、C6〜16のアルキルシクロアルキル基,C6〜16のアリール基の有機残基。ただし、R1、R2、R3の少なくとも2つは有機残基で、これらは環状に結合していてもよい)で表されるアルコキシカルボニル基を分子内に有する重合体(b)とを接触させる処理及び炭素質材料(a)と重合体(b)との混合系を加熱する処理を行う炭素材料の製造方法。【効果】前記製造方法では、得られる炭素材料が極めて低い導電性を示し、電気絶縁性材料や水性インキ等に用いる導電性の低い原材料等として有用である。

請求項（抜粋）：

炭素質材料(a)と、アジリジン基、オキサゾリン基、N-ヒドロキシアルキルアミド基、エポキシ基、チオエポキシ基、イソシアネート基、ヒドロキシ基、アミノ基、ビニル基、アクリル基、メタクリル基からなる群より選択される一種又は二種以上の反応性基および一般式(1) R1R2R3C-O-CO- (1)(式中、R1、R2およびR3は同一若しくは異なる基であって、水素原子あるいは炭素数1〜6のアルキル基、炭素数5〜8のシクロアルキル基、炭素数6〜16のアルキルシクロアルキル基または炭素数6〜16のアリール基の有機残基を示す。ただし、R1、R2およびR3のうち少なくとも2つは有機残基であり、これらは環状に結合していてもよい。)で表されるアルコキシカルボニル基を分子内に有する重合体(b)とを接触させる処理及び前記炭素質材料(a)と前記重合体(b)との混合系を加熱する処理を行うことを特徴とする炭素材料の製造方法。