特許
J-GLOBAL ID：200903049285867902
レボジオンの製造法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
清水 初志
, 橋本 一憲
, 新見 浩一
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-569851
公開番号（公開出願番号）：特表2005-517448
出願日： 2003年02月15日
公開日（公表日）： 2005年06月16日
要約：
分子量61,300±5,000Da;補助因子としてのNADPHおよびNADH;pH7.4における最適温度55〜60°C;最適pH4.5〜8.5;および特に酵母に由来するα,β-不飽和ケトンにおける基質特異性によって特徴付けられるエノン還元酵素、ならびにケトイソホロンからレボジオンを調製する方法を提供する。
請求項（抜粋）：
液体培地中NADHまたはNADPHの存在下でケトイソホロンをNADPH脱水素酵素に接触させる段階、および結果として生じるレボジオンを反応混合物から単離する段階を含む、ケトイソホロンからレボジオンを製造する方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (15件)：
4B024AA03
, 4B024BA08
, 4B024CA04
, 4B024CA20
, 4B024DA06
, 4B024DA12
, 4B024EA04
, 4B064AC37
, 4B064CA06
, 4B064CA19
, 4B064CA21
, 4B064CB17
, 4B064CC24
, 4B064CD05
, 4B064DA20
