特許
J-GLOBAL ID:200903049287164399
ポジ型感光性組成物
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
萩野 平 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-069586
公開番号(公開出願番号):特開平8-044055
出願日: 1995年03月28日
公開日(公表日): 1996年02月16日
要約:
【要約】【目的】 (1)感度が高くかつ現像ラチチュードの良い平版印刷版用感光性組成物、及び(2)高感度で高解像力である超微細加工用ポジ型フォトレジスト組成物を提供することを目的とする。【構成】 キノンジアジド構造及びこのキノンジアジド構造と独立したN-スルホニルアミド〔-C(=O)-NHSO2 -〕構造を同一分子内に含む、また、キノンジアジド構造及びこのキノンジアジド構造と独立したスルホンアミド〔-NHSO2 -〕構造を同一分子内に含む、特定の構造式を有するキノンジアジドエステル化合物を含有する。
請求項(抜粋):
少なくとも1個以上のキノンジアジド構造及びこのキノンジアジド構造と独立した少なくとも1個以上のN-スルホニルアミド〔-C(=O)-NHSO2 -〕構造を同一分子内に含む下記一般式〔I〕で表されるキノンジアジドエステル化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。【化1】一般式〔I〕において、L1およびL2はそれぞれ独立して置換基を有していてもよい非金属原子からなる多価の連結基を表す。Q1およびQ2はそれぞれ独立して水素原子またはキノンジアジド構造を表し、m1およびm2はそれぞれ独立して1〜15の整数を表す。但し、Q1およびQ2の少なくとも1つはキノンジアジド構造を表す。
IPC (3件):
G03F 7/022
, G03F 7/00 503
, H01L 21/027
引用特許:
出願人引用 (4件)
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特開平4-022955
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特開平3-058049
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特開昭63-214747
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特開平4-274431
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審査官引用 (4件)
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特開平4-022955
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特開平3-058049
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特開昭63-214747
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