特許
J-GLOBAL ID：200903049288221353
最密充填塗膜、その製造方法及び最密充填塗膜形成フィルム
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
光来出 良彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-353480
公開番号（公開出願番号）：特開平7-198904
出願日： 1993年12月28日
公開日（公表日）： 1995年08月01日
要約：
【要約】【目的】 簡単な方法で、超微粒子を基板上に一層だけ高密度に規則正しく配列させた最密充填塗膜、特に、反射防止膜に適した塗膜を形成する方法を提供する。【構成】 シリカ粒子と、該シリカ粒子の粒径より小さな粒径を持つコロイダルシリカとの混合物を主体とした分散液を用いて塗膜を形成することにより、基材表面に一層だけ高密度に規則正しくシリカ粒子を配列させる。前記分散液中に、樹脂バインダーを添加してもよい。このような最密充填塗膜とすることにより、空気と接する表層から基板に向けて屈折率が段階的に緩やかに増大するので、光の反射防止効果が生ずる。
請求項（抜粋）：
シリカ粒子と、該シリカ粒子の粒径より小さな粒径を持つコロイダルシリカとの混合物により形成された該シリカ粒子の粒径と同じ程度の膜厚を持ち、該シリカ粒子が高密度に規則正しく一層だけ配列している最密充填塗膜。
IPC (5件)：
G02B 1/11
, B05D 5/06
, B05D 7/04
, B05D 7/24 303
, B32B 27/36
