特許

J-GLOBAL ID：200903049294868946

フォトレジスト塗布装置

発明者： 森谷 雅道 ,  景山 憲二 ,  大城 研二 ,  森 清人
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  関東化学株式会社
代理人 (1件)： 秋田 収喜
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-062627
公開番号（公開出願番号）：特開平10-256139
出願日： 1997年03月17日
公開日（公表日）： 1998年09月25日
要約：

【要約】【課題】 簡単な構成にも拘らず回収されたフォトレジストに水分が含有されないようにする。【解決手段】 外部と隔絶された空間内に配置された基板の表面にフォトレジストをスピン塗布し、その塗布において生じる残余のフォトレジストを回収するフォトレジスト塗布装置において、該空間内に水分含有量の少ないガスを供給できる手段が備えられている。

請求項（抜粋）：

外部と隔絶された空間内に配置された基板の表面にフォトレジストをスピン塗布し、その塗布において生じる残余のフォトレジストを回収するフォトレジスト塗布装置において、該空間内に水分含有量の少ないガスを供給できる手段が備えられていることを特徴とするフォトレジスト塗布装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  B05C 11/08 ,  B05D 1/40 ,  G03F 7/16 502

FI (4件)：

H01L 21/30 564 C ,  B05C 11/08 ,  B05D 1/40 A ,  G03F 7/16 502